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低(di)溫(wen)等(deng)離子(zi)光催化(hua)除(chu)臭(chou)凈化(hua)器針(zhen)對(dui)壓(ya)鑄(zhu)脫模有(you)機廢氣(qi)、註塑(su)有(you)機廢氣(qi)、車(che)間(jian)惡臭(chou)廢(fei)氣(qi)、食品香(xiang)料異(yi)味(wei)、水(shui)性(xing)塗(tu)裝、水(shui)性(xing)印刷(shua)等(deng)低(di)濃度有(you)機廢氣(qi)效(xiao)果,包您(nin)達到(dao)針(zhen)對(dui)北(bei)上廣深(shen)壹線(xian)城市(shi)地(di)標排放要(yao)求
離子除(chu)臭(chou)設備能有(you)效(xiao)去除(chu)硫(liu)化(hua)氫(H2S)、氨(an)(NH3)、甲硫(liu)醇(chun)等(deng)特定(ding)的汙染物,以(yi)及(ji)各種異(yi)(臭(chou))味(wei),效(xiao)果可達(da)85-95%左右。在任何季(ji)節(jie),任何氣(qi)候條(tiao)件下都(dou)能滿足(zu)嚴格的除(chu)臭(chou)處(chu)理效(xiao)果要(yao)求。
等(deng)離子(zi)除(chu)臭(chou)裝置(zhi)能有(you)效(xiao)去除(chu)硫(liu)化(hua)氫(H2S)、氨(an)(NH3)、甲硫(liu)醇(chun)等(deng)特定(ding)的汙染物,以(yi)及(ji)各種異(yi)(臭(chou))味(wei),效(xiao)果可達(da)85-95%左右。
等(deng)離子(zi)廢氣(qi)處(chu)理設備是(shi)壹種結合了(le)等(deng)離子(zi)技術(shu)和(he)光催化(hua)技術(shu)的空(kong)氣(qi)凈化(hua)設備,主(zhu)要(yao)用於去除(chu)空(kong)氣(qi)中的異(yi)味(wei)、有(you)害(hai)氣(qi)體和(he)微生物。
離子除(chu)臭(chou)設備能有(you)效(xiao)去除(chu)硫(liu)化(hua)氫(H2S)、氨(an)(NH3)、甲硫(liu)醇(chun)等(deng)特定(ding)的汙染物,以(yi)及(ji)各種異(yi)(臭(chou))味(wei),效(xiao)果可達(da)85-95%左右。在任何季(ji)節(jie),任何氣(qi)候條(tiao)件下都(dou)能滿足(zu)嚴格的除(chu)臭(chou)處(chu)理效(xiao)果要(yao)求。

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